연습모드 10문제
진행중
한 문제씩 정답을 확인하며 문제를 푸는 모드입니다.
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1. 반도체 공정에 대한 설명 중 틀린 것은?
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1
감광반응되지 않은 부분을 제거하는 공정을 에칭이라 하며, 건식과 습식으로 구분할 수 있다.
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2
감광성 고분자를 이용하여 실리콘웨이퍼에 회로패턴을 전사하는 공정을 리소그래피(lithography) 라고 한다.
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3
화학기상증착법 등을 이용하여 3족 또는 6족의 불순물을 실리콘웨이퍼내로 도입하는 공정을 이온주입이라 한다.
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4
웨이퍼 처리공정 중 잔류물과 오염물을 제거하는 공정을 세정이라 하며, 건식과 습식으로 구분할 수 잇다.
오류 내용 신고
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https://gongquiz.com/main/pages/search.php?q=%ED%99%94%EA%B3%B5%EA%B8%B0%EC%82%AC
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[]
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practice
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반도체 공정에 대한 설명 중 틀린 것은? - 화공기사 (2020년 8월 22일 기출문제) #공퀴즈 #닷컴