연습모드 10문제
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한 문제씩 정답을 확인하며 문제를 푸는 모드입니다.
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1. 반도체 공정에서 산화막 공정의 목적과 거리가 먼 것은?
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표면 유전성(surface dielectric) 효과
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표면 안정화(surface passivation) 효과
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3
이온주입 및 불순물 확산공정에 대한 마스킹(selective masking) 효과
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4
저온증착(Low Temperature Chemical Vapor Deposition) 효과
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https://gongquiz.com/main/pages/search.php?q=%EB%B0%98%EB%8F%84%EC%B2%B4%EC%84%A4%EA%B3%84%EC%82%B0%EC%97%85%EA%B8%B0%EC%82%AC
https://gongquiz.com/main/pages/%EB%B0%98%EB%8F%84%EC%B2%B4+%EA%B3%B5%EC%A0%95%EC%97%90%EC%84%9C+%EC%82%B0%ED%99%94%EB%A7%89+%EA%B3%B5%EC%A0%95%EC%9D%98+%EB%AA%A9%EC%A0%81%EA%B3%BC+%EA%B1%B0%EB%A6%AC%EA%B0%80+%EB%A8%BC+%EA%B2%83%EC%9D%80%3F.quiz??mode=practice&quizNo=879972&historyNo=reset
[]
[879972,879973,879974,879975,879976,879977,879978,879979,879980,879981]
{"879972":[1,2,3,4],"879973":[1,2,3,4],"879974":[1,2,3,4],"879975":[1,2,3,4],"879976":[1,2,3,4],"879977":[1,2,3,4],"879978":[1,2,3,4],"879979":[1,2,3,4],"879980":[1,2,3,4],"879981":[1,2,3,4]}
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반도체 공정에서 산화막 공정의 목적과 거리가 먼 것은? - 반도체설계산업기사 (2016년 5월 8일 기출문제) #공퀴즈 #닷컴
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