연습모드 10문제
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한 문제씩 정답을 확인하며 문제를 푸는 모드입니다.
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1. 반도체 공정에서 산화막 공정의 목적과 거리가 먼 것은?
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표면 유전성(surface dielectric) 효과
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2
표면 안정화(surface passivation) 효과
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3
이온주입 및 불순물 확산공정에 대한 마스킹(selective masking) 효과
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4
저온증착(Low Temperature Chemical Vapor Deposition) 효과
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반도체 공정에서 산화막 공정의 목적과 거리가 먼 것은? - 반도체설계산업기사 (2016년 5월 8일 기출문제) #공퀴즈 #닷컴